关于我们
ABOUT US
我们专注于设计、研发和制造各类先进的高纯高浓度臭氧发生器系统,推动臭氧设备解决方案在光伏,面板,半导体生产领域的应用,为原子层沉积(ALD)、化学气相沉积(CVD)、光刻胶带、晶片清洁、污染物去除、表面调节和氧化物生长等半导体工艺设备提供最佳的臭氧解决方案。
We focus on designing, researching, and manufacturing various advanced high-purity and high-concentration ozone generator systems. We promote ozone equipment solutions in the fields of photovoltaics, panels, and semiconductor production, providing the best ozone solutions for semiconductor process equipment such as ALD, CVD, photolithography, chip cleaning, pollutant removal, surface modification, and oxide growth.
20+
知识产权
15+
合作单位
10+
科研奖励
10+
产品类型

知识产权

Intellectual Property Rights (IPR)
公司臭氧发生器所有核心技术均已授权发明专利,研发团队已获得多项省部级奖励。
产品优势
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技术国际领先,打破国外臭氧厂商技术壁垒,无差别替代进口设备
自主可控
核心部件完全自主国产,达到量产水
超纯臭氧
创新的放电室材料与结构联合设计,实现超纯臭氧输出
精准控制
采用高性能处理器,搭配先进控制算法,臭氧浓度纹波小于0.5%
行业认证
产品通过国内头部半导体设备厂商测试验证,并通过SEMI S2和CE认证
产品应用
Product Applications
臭氧具有较高的氧化性和还原特性,可自然衰变为氧气(2O3-3O2)。因此,臭氧的尾气处理只需在工艺流程输出端使用臭氧破坏装置,生成绿色的氧气,工艺简单,处理成本低。臭氧的典型应用包括原子层沉积(ALD)、化学气相沉积(CVD)、光致抗蚀剂带、表面清洗、污染物去除、表面处理和氧化物生长等。
热线电话:
022-69353379
联系邮箱:
info@olsmozone.com
工作时间:
周一到周五 09:00-18:00
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